第二百七十一章 成功了！光刻工廠實現了！

　
3納米極紫外光？

檢測光束設備給出的數據反饋讓所有人大吃一驚，3納米的極紫外光束，這豈不是說他們即將具備製造3納米芯片的條件？

眾所周知，在不考慮《多重曝光技術》的情況下，想要刻出幾納米級的芯片，就要先製造出多少納米的紫外光光源。

193納米的深紫外光還好說，大自然裡面也能找得到，但13.5納米及以下的極紫外光，那就必須由人為創造。

深紫外光和極紫外光，和分別對應了duv光刻機和euv光刻機，後者現在還處於禁止出口龍國的設備清單裡面。

一旦這束光源被證實，確實是可以運用於光刻的極紫外光，那麼整個芯片行業都將被顛覆。

“真是3納米嗎？”

夏揚神色激動，向前一步。

他大學雖然學的不是半導體，但這並不代表他不懂芯片製造。

想要光刻14納米芯片，就要製造13.5納米波長的極紫外光，這在各種半導體諮詢媒體鋪天蓋地宣傳下，早已經人盡皆知。

3納米波長？

豈不是能刻3納米芯片？

雷兵也忍不住上前一步，詢問道：“這束光能用嗎？如果能用是不是意味著我們能造3納米芯片了？”

現在主流芯片是14納米，無論是龍興科技的soC上帝芯片，還是蘋果公司的A9s仿生芯片，亦或者說是髙通公司剛剛推出的驍龍821芯片，它們都是14納米制程，根本夠不著3納米的邊邊。

要是真能造3納米芯片，那可不是小小的科技震撼，而是向整個半導體芯片行業扔了個蘑菇彈，要顛覆整個行業的事情了。

“不能這樣說。”

陳星從震撼中回過神，給雷兵與夏揚講解道：“具備光源還不夠，如果真要造3納米芯片，我們還要經歷芯片設計與研製光刻膠。”

在半導體領域，可不僅僅光刻機和紫外光有納米等級，光刻膠同樣有納米等級區分。

像目前龍興化工研製的1號光刻膠，它的曝光波長就在193納米，最高支持7納米芯片製造，這還是有多重曝光技術加持的情況下。

想要製造出3納米芯片，3納米極紫外光、3納米芯片電路設計、3納米曝光波長光刻膠缺一不可，這也是為什麼，芯片納米等級推進緩慢的原因。

每推進一步，都需要各行業跟進，一旦說光刻膠不行，那有極紫外光和電路設計圖也沒用。

正因為技術門檻高，大洋彼岸才能用芯片做文章。

“總裁說得沒錯。”林天也給予了肯定，他回頭看向兩位局長道：“現在說3納米芯片還為時過早，不過我們可以先試試這13.5納米波長的極紫外光，看看它能不能滿足芯片生產需求。”

“這句話在理。”

“確實是我們操之過急了。”

雷兵和夏揚點了點頭。

他們屬於是懂一點，但並不知道半導體芯片領域可不僅僅只有極紫外光，還有n多的細枝末節，只有全部攻克才能造出芯片。

“趁著天沒亮，我們儘快測試光束的可行性吧。”陳星提醒一句。

他們現在可是關了全深城的電力供應，哪怕是凌晨4點鐘，但依然會對城市造成影響。

“我馬上操作。”

林天點了點頭回應道。

剛說完，他立馬看向設備操控臺，開始輸入指令，時不時還跑到一側去操作。

光刻工廠不同於光刻機，它更像是一條完整的自動化流水線，只需要裝填半導體硅片以及光刻膠與配套試劑，輸入指令後就可以進行自動化生產。

林天在檢驗了十幾束13.5納米波長的極紫外光後，也發現了單色性最好的一條光束，將它設定為1號光刻區域。

又經過了十分鐘的參數調試，排除外故障情況，林天輸入了確定工作的指令。

下一秒。

運輸裝置自動取片。

存放在特定區域的半導體硅片被靜電吸盤吸起，運送到清洗區域，洗掉附著在半導體硅片表面的灰塵和雜質。

在清洗完成以後，半導體硅片會通過特殊運輸通道，運往下一個步驟進行烘烤，待半導體硅片徹底乾燥將繼續運往下一個步驟，塗抹光刻膠。