第二百零四章 深挖芯片材料，進軍東南亞效仿大米？

　
“如果要用一句話概括，那就是這款光刻膠是我專門為多重曝光技術而設計的產品。”

當陳星聽見這句話那刻，心中也泛起了波瀾。

因為沒有13.5極紫外光的euv光刻機，各個環節都需要配合多重曝光技術去設計。

想弄更先進的光刻膠？

不好意思。

48納米duv光刻機不支持！

因為48納米的duv光刻膠照射出來的光源是193納米，如果光刻膠不能適配這個數值，那將無法參與芯片生產。

“辛苦了。”

縱使有千言萬語，陳星也只能化作這三個字。

他已經打定主意了，只要光刻工廠宣佈建設完成，並投入使用那刻，就是徹底與西方攤牌，半導體領域全面反擊的時刻。

“職責所在。”朱明月淡淡一笑，又拿起旁邊的罐子道：“剛才的是正膠，這罐是反膠，總裁可以帶回去試試效果。”

雖然光刻膠種類多，大致分為六種，不過40納米以下芯片用的光刻膠一般都是Arf光刻膠，而它又區分正反膠。

何為光刻正反膠？

就比如說Arf光刻膠的正膠，它被紫外光照射後，照射區域的化學性質會變得容易溶解，因此經過曝光的區域會被移除，形成電路圖案，未曝光的區域則保持不變，形成所需的結構。

至於Arf光刻膠的反膠，它被紫外光照射則截然相反，未曝光區域的化學性質變得容易溶解，因此未經曝光的區域會被移除，形成圖案，經曝光的區域則保持不變，形成所需的結構。

光刻正反膠，它們分別對應了不同的光刻生產工藝，也是硅片曝光的必備。

“對了。”

朱明月在拿出光刻膠後，還不忘提一嘴道：“這款光刻膠阻抗是10的20次方，領先jsr株式會社、tok東京應化5個次方。

“阻抗越高，就代表光刻膠純度越高，純度不足就會造成硅片汙染，這款光刻膠總的來說就四個字，遙遙領先。”

“遙遙領先…”

陳星聽見後難掩心中激動。

前有16英寸半導體硅片，後有10^20Arf光刻膠，芯片生產原材料方面算是初步閉環了。

為什麼說初步閉環，而不是說全面閉環？

那是因為光刻膠主要成分是感光樹脂、光敏劑，溶劑，這裡面還有材料細分。

就比如說感光樹脂，它的成分是甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯，同樣依賴半島進口。

光敏劑同樣如此，被東洋合成工業株式會社、富士膠片壟斷，均是霓虹島國企業。

芯片領域越往下深挖就會發現，龍國落後的可不是一星半點。

上到光刻機、edA軟件，下到半導體硅片、光刻膠等配套試劑。

你以為這就完了？

合成光刻膠的化學材料，也被人家所壟斷。

這也就是為什麼，陳星不急於公開芯片材料技術的原因。

因為還有底層的東西沒解決，就不適合太張揚。

目前來說，提供為甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯的外國企業還沒有斷供，因為這些材料不僅僅可以用來製作光刻膠，還能用來醫用，甚至也可以運用到石墨和塗料，不能算完全的半導體材料。

這也是為什麼，這些企業沒有參與聯合制裁。

因為現在誰也想不到，龍國企業的工業底子已經可以生產10^20Arf光刻膠，如果讓它們知曉肯定會限制。

……

當回過神，平復心情後，陳星也如獲至寶般拿起瓶子，詢問道：“甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯和光敏劑怎麼樣？能夠近期攻克嗎？”

“快了。”

朱明月閃過抹猶豫，沒敢明確回覆日期。

因為目前的龍興化工，設備和人手都略顯不足。

光刻膠不比半導體硅片，它的設備和技術封鎖是最嚴重的，甚至比光刻機還要嚴重。

要知道，無論是芯片生產，還是光掩膜版製造，都離不開光刻膠的參與。

它就像是一隻筆，光刻機則是握住筆的手，半導體硅片就是紙，沒有筆的參與，要光刻機和半導體硅片也沒用。

當然了。

半導體硅片和光刻機同樣重要。

不過因為龍國是工業強國，半導體硅片領域也有自己產品，6和8英寸還是可以自產的。